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        • EVG101光刻膠勻膠機

          研發(fā)和小規(guī)模生產(chǎn)中的單晶圓光刻膠加工。$nEVG101光刻膠勻膠機在單室設計上可以滿足研發(fā)工作,與EVG的自動化系統(tǒng)*兼容。EVG101支持大300 mm的晶圓,可配置為旋涂或噴涂和顯影。

          更新時間:2024-11-26
          型號:EVG101
          廠商性質(zhì):代理商
          瀏覽量:3757
        • EVG610EVG單面/雙面掩模對準光刻機

          EVG單面/雙面掩模對準光刻機EVG610(單面/雙面掩模對準光刻機 微流控 納米壓印)支持各種標準光刻工藝,如真空,硬,軟接觸和接近式曝光模式,可選擇背部對準方式。此外,該系統(tǒng)還提供其他功能,包括鍵合對準和納米壓印光刻(NIL)。EVG610提供快速處理和重新加工,以滿足不斷變化的用戶需求,轉(zhuǎn)換時間不到幾分鐘。其先進的多用戶概念適合初學者到專家級各個階層用戶,非常適合大學和研發(fā)應用。

          更新時間:2024-11-09
          型號:EVG610
          廠商性質(zhì):代理商
          瀏覽量:8840
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