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        關(guān)于接觸式光刻機(jī)的使用原理,您是否都知道?

        更新時(shí)間:2022-02-15  |  點(diǎn)擊率:3121
          接觸式光刻機(jī)是一種用于信息科學(xué)與系統(tǒng)科學(xué)、能源科學(xué)技術(shù)、電子與通信技術(shù)領(lǐng)域的工藝試驗(yàn)儀器。
         
          主要構(gòu)成:
          主要由對(duì)準(zhǔn)工作臺(tái)、雙目分離視場(chǎng)CCD顯微顯示系統(tǒng)、LED曝光頭、PLC電控系統(tǒng)、氣動(dòng)系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)、直聯(lián)式真空泵、二級(jí)防震工作臺(tái)和附件箱等組成。
         

         

          接觸式光刻機(jī)的使用原理:
          其實(shí)在我國對(duì)于接觸式光刻機(jī),曝光時(shí)掩模壓在光刻膠的襯底晶片上,其主要優(yōu)點(diǎn)是可以使用價(jià)格較低的設(shè)備制造出較小的特征尺寸。
          我們也許不知道接觸式光刻和深亞微米光源已經(jīng)達(dá)到了小于0.1 gm的特征尺寸,常用的光源分辨率為0.5 gm左右。接觸式光刻機(jī)的掩模版包括了要復(fù)制到襯底上的所有芯片陣列圖形。在襯底上涂上光刻膠,并被安裝到一個(gè)由手動(dòng)控制的臺(tái)子上,臺(tái)子可以進(jìn)行X、y方向及旋轉(zhuǎn)的定位控制。
          在操作過程中掩模版和襯底晶片需要通過分立視場(chǎng)的顯微鏡同時(shí)觀察,這樣操作者用手動(dòng)控制定位臺(tái)子就能把掩模版圖形和襯底晶片上的圖形對(duì)準(zhǔn)了。經(jīng)過紫外光曝光,光線通過掩模版透明的部分,圖形就轉(zhuǎn)移到了光刻膠上。接觸式光刻機(jī)的主要缺點(diǎn)是依賴于人操作,由于涂覆光刻膠的圓片與掩模的接觸會(huì)產(chǎn)生缺陷,每一次接觸過程,會(huì)在圓片和掩模上都造成一定的缺陷。因此,接觸式光刻機(jī)一般用于能容忍較高缺陷水平的器件研究和其他應(yīng)用方面。
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